| 美***Trion Technology
反應式離子刻蝕系統及沉積系統 | | Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統制造商，Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。我們的產品在業內以系統占地面積*小、成本低而著稱，且設備及工藝的可靠性和穩定性久經考驗。從整套的批量生產用設備，到簡單的實驗室研發用系統，盡在Trion。 批量生產用設備去膠系統Geminiollo :
| - 低損傷去膠系統
新式去膠系統的成本已攀升到不合理水平，但Trion已通過兩套價格低廉、緊湊的多功能系統使這***關鍵問題得到解決：Gemini和Apollo。利用ICP(電感耦合等離子)、微波和射頻偏置功率，可以在低溫條件下將難于消除的光刻膠去除。根據應用要求，每套系統可以結合SST-Lightning 微波源(既可靠又沒有任何常見的微波調諧問題) 或ICP 技術。
• 刻蝕速率高達6微米/分
• 高產量
• 等離子損傷低
• 自動匹配單元
• 適用于100mm 到300mm 基片
• 設備占地面積小
• 價格具競爭性 | 
滬公網安備31011502016460號
